A1000PC是面向于工业化大规模生产的原子层沉积系统，低温镀膜设计可以在各种3维基板上沉积高质量光学薄膜。
A1000PC是面向于工业化大规模生产的原子层沉积系统，低温镀膜设计可以在各种3维基板上沉积高质量光学薄膜。
在塑料基板上优异的薄膜保形性和附着性
经国际认证机构认可的ALD系统设计
正常运行时间和产能
可兼容基板自动化装载
适用于工业4.0的先进控制系统
| 尺寸 | 宽3220 长4300 高2800mm(亦可定制化) | 沉积薄膜 | Al2O3，SiO2，TiO2 | 等离子体 | ICP |
| 前驱体源 | 4液态 2气体 | 基板 | 平面或三维 | 装载量 | Φ335mm*40pcs |
| 工艺温度 | <130℃ | 薄膜均匀性 | Al2O3,SiO2 <±2%, TiO2<±3% | 装载方式 | 半自动 |
在塑料基板上优异的薄膜保形性和附着性
经工业化检验认证的ALD系统设计
正常运行时间和产能
可兼容基板自动化装载
适用于工业4.0的先进控制系统
真正的批量式低温氧化硅沉积工艺
良好的批量式二氧化钛均匀性
可对塑料镜头进行等离子前处理
高装载量的批量式原子层沉积系统
业内常用的量产式设备
已验证的高重复可靠性
沪公网安备31011302007876