光驰A800TBS原子层沉积系统是专业应用于晶圆级光学领域的工业化批量式ALD，例如：光栅间隙填充，三维表面修饰，器件封装和沉积增透减反膜。
光驰A800TBS原子层沉积系统是专业应用于晶圆级光学领域的工业化批量式ALD，例如：光栅间隙填充，三维表面修饰，器件封装和沉积增透减反膜。
光驰A800TBS拥有极佳的薄膜均匀性和很短的单次循环时间，产量高，颗粒数低，电学和光学性能优越，从而重新定义了大规模量产ALD系统。
经过特殊设计和专门调试的A800TBS，能够满足目前市场客户所需求的低温沉积工艺。
光驰A800TBS采用在洁净间进行生产，维护操作在灰区进行，节省了设备占地面积。这种设计使得设备维护更简便，耗材更少，并且有着优越的的镀膜重复性与可靠性。
8英寸标准晶圆装片量高达25片
70 – 300℃
大批量工艺，极短的沉积循环时间
200℃沉积温度， Al2O3薄膜不均匀性低于1%（1sigma）
极具竞争力的薄膜均匀性和其他性能沉积薄膜：Al2O3, SiO2, TiO2
前驱体位置：标配铝源，钛源，水源
其他前驱体源如臭氧，氨气，硅源可选配
手动装片
半自动装片
全自动装片
沪公网安备31011302007876