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A1000PC: 应用于3D基板的干涉超低反薄膜

ALD镀膜技术用于手机摄像头等镜头镀膜,以减少反射导致的拍照鬼影炫光。同时光驰ALD镀膜的环境测试效果非常好,在85温度85湿度条件下1000小时老化测试后反射光谱仍然没有变化。

概述

ALD镀膜技术用于手机摄像头等镜头镀膜,以减少反射导致的拍照鬼影炫光。同时光驰ALD镀膜的环境测试效果非常好,在85温度85湿度条件下1000小时老化测试后反射光谱仍然没有变化。


ALD镀膜技术对比PVD镀膜技术,在3D基板表面,ALD可以做到更好的镀膜均匀性,保形性。这是PVD镀膜难以达到的。

相关功能

A1000PC: 应用于3D基板的干涉超低反薄膜

(a) No bubbles or cracking (b) Negligible wavelength shift after HTHH test

A1000PC: 应用于3D基板的干涉超低反薄膜

Good adhesion and conformality shown by the cross section of ALD SiO2/TiO2 coating on substrate, sampling by FIB and SEM

A1000PC: Anti-reflective coating on 3D substrate

应用场景

ALD镀膜技术用于手机摄像头等镜头镀膜,以减少反射导致的拍照鬼影炫光。同时光驰ALD镀膜的环境测试效果非常好,在85温度85湿度条件下1000小时老化测试后反射光谱仍然没有变化。


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