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2025年10月01日
日前由光驰半导体技术（上海）有限公司研发的首台用于高端光学应用的反应等离子体刻蚀设备（DEG-4050），已于9月30日正式出荷海外总部。此举标志着光驰半导体在核心工艺系列装备领域取得了重大突破，为高端光学制造装备的产品系列写下了浓重的一笔。
本次出荷的设备将主要用于精密光学元件，如AR/VR衍射光波导、微透镜阵列、超表面光学元件等的纳米级刻蚀加工。该设备集成了高密度等离子体源、精密的腔室温度控制以及先进的气体输送系统，能够实现极高各向异性和选择比的刻蚀工艺，满足下一代光学产品对图形精度极致要求。
同时与纳米压印、喷涂设备工艺结合是形成有效解决微纳图形制造难题的组合拳。两者共同构成了面向半导体光学等高端应用的完整微纳制造的解决方案。
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